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露笑科技8英寸碳化硅襯底獲里程碑進展 助力國產高端市場突圍

   發(fā)布時間:2026-01-17 00:38 作者:陳陽

合肥露笑半導體材料有限公司近日在寬禁帶半導體材料領域取得重大突破,其8英寸導電型碳化硅襯底的研發(fā)與產業(yè)化進程邁入國際領先行列。這一成果不僅提升了我國在新能源汽車、光伏發(fā)電、儲能系統(tǒng)等關鍵產業(yè)的核心競爭力,更為保障供應鏈安全提供了重要支撐。

據技術團隊介紹,公司通過自主研發(fā)的晶體生長設備與全流程工藝體系,成功攻克了8英寸導電型碳化硅晶體生長的核心技術難題。實驗數(shù)據顯示,所產晶體結晶質量優(yōu)異,晶型穩(wěn)定性達到行業(yè)頂尖水平,襯底產品的微管密度、表面粗糙度、位錯密度及電阻率分布均勻性等關鍵指標均優(yōu)于國際主流標準。其中,位錯密度控制技術尤為突出,表面質量完全滿足高端客戶對高性能碳化硅功率器件的制造需求。

該突破的核心價值在于實現(xiàn)了技術自主可控。從晶體生長參數(shù)的精準調控到襯底加工的全產業(yè)鏈閉環(huán),露笑科技構建了完全自主的知識產權體系。這種垂直整合模式不僅縮短了產品開發(fā)周期,更通過工藝優(yōu)化顯著提升了生產效率與產品一致性。

在產業(yè)化布局方面,公司已啟動合肥基地的產能擴張計劃。一期項目已實現(xiàn)穩(wěn)定量產,為市場供應提供了基礎保障;二期工程將重點建設8英寸專用生產線,預計投產后可滿足新能源汽車電驅系統(tǒng)、光伏逆變器、智能電網等領域快速增長的市場需求。據測算,項目全面達產后將形成年產數(shù)十萬片的生產能力。

為保持技術領先優(yōu)勢,研發(fā)團隊正同步推進兩項戰(zhàn)略布局:一方面通過工藝迭代持續(xù)提升8英寸襯底的良品率與成本競爭力,另一方面啟動更大尺寸碳化硅襯底的預研工作。在市場拓展層面,公司已與多家國內外頭部功率器件制造商建立戰(zhàn)略合作,加速完成產品驗證與批量導入,推動國產碳化硅材料在高端應用領域的規(guī)模化替代。

公司負責人表示,將始終以"突破關鍵技術、服務國家戰(zhàn)略"為使命,通過持續(xù)創(chuàng)新構建碳化硅材料的技術壁壘,助力我國半導體產業(yè)鏈實現(xiàn)從跟跑到領跑的跨越式發(fā)展。目前,相關技術成果已申請多項國家發(fā)明專利,并參與制定多項行業(yè)標準。

 
 
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